Ohutu ladustamise tagamiseks on tavaliselt koristatud maisi niiskusesisaldus (MC) kõrgem kui nõutav tase 12–14% märgalusel (wb).MC alandamiseks ohutu ladustamistasemeni on vaja maisi kuivatada.Maisi kuivatamiseks on mitu võimalust.Loomulik õhukuivamine paagis toimub 1–2 jala paksuses kuivas piirkonnas, mis liigub aeglaselt läbi prügikasti üles.
Mõnes loomulikus õhu käes kuivatamise tingimustes võib maisi täielikuks kuivamiseks kuluv aeg põhjustada terades hallituse kasvu, mis põhjustab mükotoksiinide tootmist.Aeglaste madala temperatuuriga õhukuivatussüsteemide piirangutest kõrvalehoidmiseks kasutavad mõned protsessorid kõrge temperatuuriga konvektsioonkuivateid.Kõrge temperatuuriga kuivatitega seotud energiavoog nõuab aga, et maisiterad oleksid enne täielikku kuivatamist pikka aega kõrgel temperatuuril kokku puutunud.Kuigi kuum õhk võib maisi ohutus MC-s säilitamiseks peaaegu täielikult kuivatada, ei piisa protsessiga seotud soojusvoost mõnede kahjulike, kuumakindlate hallitusseente eoste, nagu Aspergillus flavus ja Fusarium oxysporum, inaktiveerimiseks.Kõrge temperatuur võib põhjustada ka pooride kokkutõmbumist ja peaaegu sulgumist, mille tulemuseks on kooriku moodustumine või "pinna kõvenemine", mis on sageli ebasoovitav.Praktikas võib soojuskao vähendamiseks vaja minna mitu korda.Mida rohkem kordi aga kuivatatakse, seda suurem on energiakulu.
Nende ja muude probleemide jaoks valmistatakse ODEMADE Infrared Drum IRD.Tänu tavapäraste kuiva õhu süsteemidele minimaalsele protsessiajale, suurele paindlikkusele ja väiksemale energiatarbimisele pakub meie infrapunatehnoloogia tõelist alternatiivi.
Maisi infrapunakuumutamine (IR) võib maisi kiiresti kuivatada, samal ajal puhastades seda ilma üldist kvaliteeti negatiivselt mõjutamata.Maksimeerige tootmist ja vähendage kuivatusenergiat ilma maisi üldist kvaliteeti mõjutamata.Värskelt koristatud maisi esialgse niiskusesisaldusega (IMC) 20%, 24% ja 28% märgalusel (wb) kuivatati laboratoorses mastaabis infrapuna partiikuivatis ühe ja kahe käiguga.Kuivatatud proove karastati seejärel 50 °C, 70 °C ja 90 °C juures 2, 4 ja 6 tundi.Tulemused näitavad, et karastustemperatuuri ja karastusaja suurenedes suureneb niiskuse eemaldamine ja ühe läbikäiguga töödeldud vesi on suurem kui kaks korda;sarnast trendi on täheldatud ka hallituse koormuse vähendamisel.Uuritud töötlemistingimuste vahemiku puhul oli ühekäiguline vormikoormuse vähenemine vahemikus 1 kuni 3,8 log CFU / g ja kahe läbimise korral 0,8 kuni 4,4 log CFU / g.Maisi infrapunakuivatustöötlust laiendati IMC-ga 24% wb. IR-intensiivsused on 2,39, 3,78 ja 5,55 kW / m2 ning maisi saab kuivatada kuni ohutu veesisalduseni (MC) 13% (wb) ainult 650 s, 455 s ja 395 s;vastav hallitus suureneb tugevuse suurenedes Koormuse vähenemine jäi vahemikku 2,4–2,8 log CFU / g, 2,9–3,1 log CFU / g ja 2,8–2,9 log CFU / g (p > 0,05).See töö viitab sellele, et maisi infrapunakiirgusega kuivatamine on eeldatavasti kiire kuivatusmeetod, millel on potentsiaalne kasu maisi mikroobsest puhastamisest.See võib aidata tootjatel lahendada hallitusega seotud probleeme, nagu mükotoksiinidega saastumine.
Kuidas infrapuna töötab?
• soojus kantakse infrapunakiirgusega otse materjalile
• küte töötab materjaliosakestest pahupidi
• aurustuv niiskus viiakse tooteosakestest välja
Masina pöörlev trummel tagab toorainete täieliku segunemise ja välistab pesade tekke.See tähendab ka seda, et kõik toidud on ühtlaselt valgustatud.
Mõnel juhul võib see vähendada ka saasteaineid, nagu pestitsiidid ja ohratoksiin.Vahetükid ja munad asuvad tavaliselt toote graanulite südamikus, mistõttu on nende hävitamine eriti raske.
Toiduohutus tänu tooteosakeste kiirele kuumenemisele seestpoolt väljapoole – IRD hävitab loomseid valke ilma taimseid valke kahjustamata.Vahetükid ja munad asuvad tavaliselt tootegraanulite sisemises südamikus, mistõttu on neid eriti raske välja juurida.Toiduohutus tänu tooteosakeste kiirele kuumenemisele seestpoolt väljapoole – IRD hävitab loomset valku ilma taimset valku kahjustamata
Infrapunatehnoloogia eelised
• madal energiatarve
• minimaalne elamisaeg
• kohene tootmine pärast süsteemi käivitamist
• kõrge efektiivsusega
• õrn materjalikäsitlus
Postitusaeg: 24.02.2022